华人科学家胡正明获美国最高科技奖
美国白宫 22 日公布了 2015 年度美国最高科技奖项获得者名单，包括 9 名国家科学奖获得者和 8 名国家技术和创新奖获得者。美籍华人科学家胡正明是国家技术和创新奖获得者之一。
胡正明是加利福尼亚大学伯克利分校电气工程和计算机科学教授，1997 年当选美国国家工程院院士，本月早些时候当选美国国家发明家科学院院士。
他 1947 年在北京出生，先后在中国台湾和美国的高校就读，是微电子微型化和可靠性领域的主要开拓者。加州大学伯克利分校在获奖消息中称，胡正明教授的主要贡献是由他发明的鳍式场效晶体管(FinFET)。
据了解，美国国家技术和创新奖设立于 1980 年，前身叫美国国家技术奖，2007 年改为现名。是美国总统授予新技术和重大技术革新方面做出杰出贡献的发明或创新者的最高荣誉奖励。
该奖项由美国联邦政府商务部下属专利商标局管理。一个独立委员会负责向美国总统提名获奖人，表彰那些为提供美国竞争能力、国民生活品质和劳动力技术素质作出持久贡献的人士。
获奖者可以是个人，也可以是团体、企业、非营利机构等。2005 年，来自贝尔实验室的卓以和是获得美国国家和技术创新奖的首位华裔学者。
一些世界知名大企业如苹果、微软、INTEL、惠普的创始人都曾经获奖。除了个人，名企也频频出现在获奖名单中，包括 IBM、强生、摩托罗拉等。
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