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再等两年 英特尔能否重回摩尔定律?

再等两年 英特尔能否重回摩尔定律?

  英特尔曾自诩,未来电脑将更快、更便宜和更小型化。但近几年来,英特尔却失去了芯片制造工艺的优势。英特尔并没能跟上几十年来遵循的路线完成芯片设计,最终导致其产品置于十分尴尬的时期。

  按照以往,英特尔每两年时间自家的芯片制造工艺都会向前迈进一个步伐,然而最近这几年变成了每两年半,说的就是 14 纳米制造工艺。更有意思的是,接下来的 10 纳米工艺英特尔似乎更加犯难,因为英特预期至少要等到 2017 年年底,跳票的话甚至有可能到 2018 年初,14 纳米需要服役将近三年时间。

  前不久,英格尔首席财务官出席摩根士丹利科技、媒体暨电信会议(Morgan Stanley Technology, Media &Telecom Conference)时 Stacy Smith 表示,希望在 10 纳米时隔一年之后搞定 7 纳米工艺制程,重新回到每两年推进一次工艺进步的轨道上。

  “我们希望是两年搞定,但却没有。”Stacy Smith 称,“我们将会看到 7 纳米作为一场技术的变革,并可能让我们重新找回为其两年时间的节奏。”

  英特尔长期以来始终维持所谓的摩尔定律,即当价格不变时,集成电路上可容纳的元器件的数目,约每隔 18-24 个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。 简单的说,最迟每两年时间,制造工艺的进步可以让晶体管的密度翻一番,并且晶体管的成本进一步下降。

  目前英特尔的目的就是要重新遵循摩尔定律,毕竟该定律早已成为数十年来英特尔赖以生存的信条。在向 14 纳米工艺制程过渡的过程中,特别是其桌面平台,去年才完成了更换换代,导致第五代和第六代架构的桌面酷睿产品同一年登场,一切原定的产品发布计划变得四分五裂。

  在 Broadwell 和 Skylake 架构之后,英特尔计划今年发布全新代号为 Kaby Lake 架构的芯片,而基于 10 纳米制造工艺的首批 Cannonlake 芯片,则定于 2017 年晚些时候登场。

  最初线路图:

再等两年 英特尔能否重回摩尔定律?

  据称,为了顺利回归摩尔定律时间表,英特尔正押注 EUV(极紫外光刻)的新技术,该技术有助于消除芯片制造过程的复杂问题。但 EUV 现在还不能使用,因为还没有配套工具,不出意外的话,Stacy Smith 口中所受的革命性 7 纳米新品将有望首次运用到 EUV 微影技术,降低对多重图形(multi-patterning)的需求。

  Stacy Smith 坦诚,芯片变得越来越小,制造过程中出现问题的几率随之增加,多重图形运用在当前 14 纳米技术制造的过程中,已经难以进一步缩减芯片的尺寸。当然了,EUV 技术完成准备的时间也可能早于预期,或许在 10 纳米时代就能够运用,只不过 Stacy Smith 没有对此确认,他表示英特尔尚未有此规划。

  众所周知,英特尔在半导体行业已经失去了工艺制程领先的优势,尽管在晶体管鳍片间距设计和实际性能上仍然领先,但无论是三星、台积电还是 GlobalFoundries 的 10 纳米工艺问世时间都比英特尔更早。

  对于英特尔来说,重回摩尔定律的代价不低。据了解,英特尔指定一个为期 10 年投入 2700 亿美元的规划,用于生产和研发,包括晶圆、人力和工具(如 EUV 技术)和环保材料等,这个数字几乎是最初英特尔 2011 年定的 1040 亿的近三倍。

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